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RIE Plasma等離子去膠機(jī)

所屬分類：等離子去膠機(jī)

可有效去除表面殘留物、介質(zhì)與介質(zhì)間光阻去除

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產(chǎn)品詳情

RIE Plasma去膠機(jī)適用于碳化硅刻蝕、表面殘留物清除、氧化硅或氮化硅刻蝕等，腔體適用于4-8寸樣品。

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