RPS遠程等離子源-用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級別的清潔

薄膜沉積

薄膜沉積技術(shù)通過在基底上沉積特定材料形成薄膜，以實現(xiàn)表面功能化與性能優(yōu)化。

在半導(dǎo)體制造中，用于沉積絕緣層、導(dǎo)電層及介質(zhì)層，構(gòu)成集成電路核心結(jié)構(gòu)；在光伏產(chǎn)業(yè)中，通過制備透明導(dǎo)電層與光吸收層，優(yōu)化太陽能電池的轉(zhuǎn)化效率與穩(wěn)定性。

然而，薄膜沉積后的腔室、石墨舟及石英管等核心組件容易因殘留膜層導(dǎo)致工藝異常與安全隱患，直接影響薄膜均勻性、設(shè)備穩(wěn)定性及產(chǎn)品良率。

RPS遠程等離子源解決方案

RPS遠程等離子源是基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，利用原子的高活性強氧化特性，達到清洗CVD或其他腔室后生產(chǎn)工藝的目的。

產(chǎn)品優(yōu)勢

1.自研PEO表面處理工藝，可提升腔體內(nèi)部潔凈度，增加PEO膜層使用壽命，降低維護成本
2.晟鼎PLASMA BLOCK更耐腐蝕，可提高使用壽命
3.高可靠點火方式，確保點火能量穩(wěn)定
4.氣體解離率高，效果可媲美進口設(shè)備

應(yīng)用案例

1.薄膜設(shè)備腔室清洗 

薄膜設(shè)備腔室通常材質(zhì)包括不銹鋼、鋁合金、鈦合金等金屬材料，以及石英等非金屬材料。在薄膜沉積過程中，腔室內(nèi)壁易附著殘留膜層，引發(fā)顆粒污染或膜層不均勻，需通過定期清洗以維護工藝穩(wěn)定性。

 腔體處理效果 

RPS通過高活性的自由基和粒子轟擊，清除腔室內(nèi)壁表面膜層，且不損傷內(nèi)壁鍍層，可延長設(shè)備壽命、降低維護頻率，保障穩(wěn)定性。

*石英腔體處理效果對比

2.石墨舟膜層處理 

石墨舟在LPCVD、擴散工藝中作為承載晶圓的工具，其表面覆蓋的膜層會隨著工藝次數(shù)的增加逐漸增厚，導(dǎo)致熱導(dǎo)率降低，影響溫度均勻性，造成薄膜厚度不均勻。

 處理效果 

RPS遠程等離子可去除膜層，同時避免高溫氧化腐蝕石墨材料，確保舟體結(jié)構(gòu)完整，減少批次間交叉污染，提升承載重復(fù)性。

*石墨舟處理效果對比

3.光伏石英管膜層處理 

石英管在長期沉積工藝中會持續(xù)附著薄膜。隨著膜層增厚，易引發(fā)以下問題：

①應(yīng)力導(dǎo)致硅裂產(chǎn)生顆粒污染

②引發(fā)石英管端部下垂，影響膜厚均勻性

 處理效果 

RPS遠程等離子源可剝離石英管孔隙內(nèi)的膜層，恢復(fù)其光學(xué)和熱穩(wěn)定性，保障工藝穩(wěn)定性并提高使用壽命，降低維護成本。

*光伏石英管膜層處理效果對比