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真空等離子鍍膜機

所屬分類:真空等離子清洗機

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真空等離子鍍膜機(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。



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