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Plasma真空等離子清洗在半導(dǎo)體封裝行業(yè)的應(yīng)用

在封裝行業(yè)中,等離子清洗是一種先進(jìn)的清洗技術(shù),它可以通過(guò)改性表面,增強(qiáng)粘合、去除污染物,增強(qiáng)表面附著力、增強(qiáng)產(chǎn)品的質(zhì)量、提高良率、降低成本和提高生產(chǎn)效率等方面,為封裝過(guò)程提供更好的環(huán)境和條件。

真空等離子清洗機(jī)的原理:氣體在一定條件下(如射頻、微波、直流輝光放電等)電離形成活性等離子態(tài),利用等離子中的活性粒子與物體表面污物進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),或利用等離子中的高能粒子轟擊物體表面污物形成可揮發(fā)性的污物隨真空泵油走,達(dá)到清洗的目的。

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Plasma真空表面處理,使,強(qiáng),續(xù)過(guò)進(jìn)。

 

強(qiáng)

Plasma真空等離子表面處理過(guò)來(lái)強(qiáng)。過(guò),使,潤(rùn)強(qiáng),產(chǎn)穩(wěn)

 

過(guò),、質(zhì)會(huì)對(duì)產(chǎn)質(zhì)嚴(yán)。Plasma真空等離子表面處理過(guò)質(zhì),產(chǎn)質(zhì)。

 

產(chǎn)

Plasma真空等離子清洗實(shí)現(xiàn)續(xù)動(dòng)產(chǎn)過(guò),產(chǎn)預(yù),節(jié)時(shí)。時(shí),過(guò)對(duì)續(xù),進(jìn)產(chǎn)。

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